염화암모늄 판형 건조기
염화암모늄 판형 건조기
2024-06-19
사례 요약: 염화암모늄 디스크 건조기는 열매체를 고정된 다층 중공 디스크로 통과시켜 금속 디스크에 접촉된 염화암모늄 습윤 재료를 전도 방식으로 간접 가열합니다. 플로우 블레이드와 유사한 기계적 교반 작용 하에, 이동하는 염화암모늄 내의 수분은 운전 상태의 비점에서 증발 및 기화되며, 수분은 배출구를 통해 설비를 빠져나갑니다. 이를 통해 하단에서 규격에 맞는 염화암모늄 건조 제품을 얻을 수 있습니다.
염화암모늄(Ammonium chloride)은 염산의 암모늄염을 의미하며, 주로 알칼리 산업의 부산물입니다. 염화암모늄은 논에서 비료 효과가 높고 안정적인데, 이는 염소(Cl) 성분이 논에서의 질산화를 억제하고 벼 줄기 섬유 형성에 도움을 주어 인성을 높이고 벼의 도복 및 병충해 피해를 줄여주기 때문입니다.
염화암모늄 제조 공정:
염화수소 가스가 모액과 접촉 - 염화암모늄 모액이 염화수소로 포화 - 암모니아 가스 중화 - 염화암모늄 포화 용액 생성 - 냉각 결정기에서 30 ~ 45°C로 냉각 - 과포화 염화암모늄 결정 침전 - 농축 장치에 의한 결정 슬러리 농축 - 염화암모늄 제품 건조
염화암모늄 판형 건조기(Pan Dryer) 설비 원리:
열매체는 고정된 다층 중공 디스크로 전달되며, 금속 디스크에 접촉된 염화암모늄 습윤 재료는 전도에 의해 간접 가열됩니다. 플로우 블레이드와 유사한 기계적 교반 작용 하에 이동하는 염화암모늄 내의 수분은 작동 상태에서 끓는점에서 지속적으로 뒤집히고 기화되며, 수분은 습기 배출구를 통해 설비를 빠져나가 바닥에서 합격된 염화암모늄 건조 완제품을 얻게 됩니다.
염화암모늄 판형 건조기 작업 공정:
염화수소는 피더에 의해 건조기 상단 첫 번째 층의 건조 디스크에 지속적으로 공급되며, 레이크 날이 달린 레이크 암이 염화수소를 지속적으로 뒤집어 줍니다. 염화수소는 지수 나선형을 따라 건조판 표면을 흐르며, 작은 건조판 위의 염화수소는 외곽으로 이동하여 아래에 있는 큰 건조판의 외곽으로 떨어집니다. 큰 건조판 위에서 염화수소는 안쪽으로 이동하여 중앙 배출구를 통해 다음 층의 작은 건조판으로 떨어집니다. 건조 트레이의 크기는 상하로 교차 배치되어 염화수소가 건조기 전체를 통해 지속적으로 흐를 수 있게 합니다. 가열 매체는 중공 건조 디스크로 공급되며, 가열 매체로는 포화 증기, 온수 및 열매체유가 사용됩니다. 가열 매체는 건조 디스크의 한쪽 끝으로 들어가 다른 쪽 끝으로 배출됩니다. 건조된 염화수소는 마지막 층의 건조판에서 쉘 바닥으로 떨어지며, 레이크 잎에 의해 배출구로 이송됩니다. 수분은 염화수소에서 빠져나와 상단 커버에 위치한 습기 배출구를 통해 배출되며, 하단 층에서 배출된 염화수소는 직접 포장할 수 있습니다.
염화암모늄 판형 건조기 설비 특징:
1. 용이한 조절 및 강력한 적용성
재료 층의 두께, 주축 속도, 레이크 암의 수, 레이크 날의 유형 및 크기를 조정하여 건조 공정을 최적화할 수 있습니다.
각 층의 건조 디스크에 열매체 또는 냉매를 별도로 통과시켜 재료를 가열하거나 냉각할 수 있어 재료 온도 제어가 정확하고 용이합니다.
재료의 체류 시간을 정밀하게 조정할 수 있습니다.
단일 재료 흐름으로 역혼합 현상이 없으며 균일한 건조와 안정적인 품질을 보장합니다.
2. 간편한 조작
건조기의 가동 및 정지가 매우 간단합니다.
공급이 중단된 후, 이송 레이크가 건조기 내부의 재료를 신속하게 비울 수 있습니다.
특수 대형 시창을 통해 설비 내부를 세밀하게 세척하고 관찰할 수 있습니다.
3. 낮은 에너지 소비
재료 층이 매우 얇고 주축 속도가 낮아 재료 이송 시스템에 필요한 동력이 적습니다.
전도 가열 방식의 건조로 열효율이 높고 에너지 소비가 낮습니다.
4. 간편한 설치 및 작은 점유 면적
건조기는 일체형으로 제작 및 운송되므로 현장에서 인양하여 배치하기만 하면 설치와 위치 선정이 매우 쉽습니다.
건조 트레이가 층별로 배열되고 수직으로 설치되므로 건조 면적이 넓더라도 바닥 점유 면적은 작습니다.
디스크 건조기는 다층 디스크, 회전 레이크 교반, 수직 연속 건조 장치로 구성된 전도 건조 방식의 접촉식 건조기입니다. 본 설비는 고정층 전도 건조기 및 레이크형 교반 건조기를 바탕으로 지속적으로 개선 및 개발되었으며, 가열 조건이 좋고 장시간 접촉 가열이 가능한 재료에 적합합니다. 자유롭게 흐르고 점착되지 않는 미세 분말 및 입도 분포가 넓은 과립형 재료 처리에 적합합니다.
염화암모늄(Ammonium chloride)은 염산의 암모늄염을 의미하며, 주로 알칼리 산업의 부산물입니다. 염화암모늄은 논에서 비료 효과가 높고 안정적인데, 이는 염소(Cl) 성분이 논에서의 질산화를 억제하고 벼 줄기 섬유 형성에 도움을 주어 인성을 높이고 벼의 도복 및 병충해 피해를 줄여주기 때문입니다.
염화암모늄 제조 공정:
염화수소 가스가 모액과 접촉 - 염화암모늄 모액이 염화수소로 포화 - 암모니아 가스 중화 - 염화암모늄 포화 용액 생성 - 냉각 결정기에서 30 ~ 45°C로 냉각 - 과포화 염화암모늄 결정 침전 - 농축 장치에 의한 결정 슬러리 농축 - 염화암모늄 제품 건조
염화암모늄 판형 건조기(Pan Dryer) 설비 원리:
열매체는 고정된 다층 중공 디스크로 전달되며, 금속 디스크에 접촉된 염화암모늄 습윤 재료는 전도에 의해 간접 가열됩니다. 플로우 블레이드와 유사한 기계적 교반 작용 하에 이동하는 염화암모늄 내의 수분은 작동 상태에서 끓는점에서 지속적으로 뒤집히고 기화되며, 수분은 습기 배출구를 통해 설비를 빠져나가 바닥에서 합격된 염화암모늄 건조 완제품을 얻게 됩니다.
염화암모늄 판형 건조기 작업 공정:
염화수소는 피더에 의해 건조기 상단 첫 번째 층의 건조 디스크에 지속적으로 공급되며, 레이크 날이 달린 레이크 암이 염화수소를 지속적으로 뒤집어 줍니다. 염화수소는 지수 나선형을 따라 건조판 표면을 흐르며, 작은 건조판 위의 염화수소는 외곽으로 이동하여 아래에 있는 큰 건조판의 외곽으로 떨어집니다. 큰 건조판 위에서 염화수소는 안쪽으로 이동하여 중앙 배출구를 통해 다음 층의 작은 건조판으로 떨어집니다. 건조 트레이의 크기는 상하로 교차 배치되어 염화수소가 건조기 전체를 통해 지속적으로 흐를 수 있게 합니다. 가열 매체는 중공 건조 디스크로 공급되며, 가열 매체로는 포화 증기, 온수 및 열매체유가 사용됩니다. 가열 매체는 건조 디스크의 한쪽 끝으로 들어가 다른 쪽 끝으로 배출됩니다. 건조된 염화수소는 마지막 층의 건조판에서 쉘 바닥으로 떨어지며, 레이크 잎에 의해 배출구로 이송됩니다. 수분은 염화수소에서 빠져나와 상단 커버에 위치한 습기 배출구를 통해 배출되며, 하단 층에서 배출된 염화수소는 직접 포장할 수 있습니다.
염화암모늄 판형 건조기 설비 특징:
1. 용이한 조절 및 강력한 적용성
재료 층의 두께, 주축 속도, 레이크 암의 수, 레이크 날의 유형 및 크기를 조정하여 건조 공정을 최적화할 수 있습니다.
각 층의 건조 디스크에 열매체 또는 냉매를 별도로 통과시켜 재료를 가열하거나 냉각할 수 있어 재료 온도 제어가 정확하고 용이합니다.
재료의 체류 시간을 정밀하게 조정할 수 있습니다.
단일 재료 흐름으로 역혼합 현상이 없으며 균일한 건조와 안정적인 품질을 보장합니다.
2. 간편한 조작
건조기의 가동 및 정지가 매우 간단합니다.
공급이 중단된 후, 이송 레이크가 건조기 내부의 재료를 신속하게 비울 수 있습니다.
특수 대형 시창을 통해 설비 내부를 세밀하게 세척하고 관찰할 수 있습니다.
3. 낮은 에너지 소비
재료 층이 매우 얇고 주축 속도가 낮아 재료 이송 시스템에 필요한 동력이 적습니다.
전도 가열 방식의 건조로 열효율이 높고 에너지 소비가 낮습니다.
4. 간편한 설치 및 작은 점유 면적
건조기는 일체형으로 제작 및 운송되므로 현장에서 인양하여 배치하기만 하면 설치와 위치 선정이 매우 쉽습니다.
건조 트레이가 층별로 배열되고 수직으로 설치되므로 건조 면적이 넓더라도 바닥 점유 면적은 작습니다.
디스크 건조기는 다층 디스크, 회전 레이크 교반, 수직 연속 건조 장치로 구성된 전도 건조 방식의 접촉식 건조기입니다. 본 설비는 고정층 전도 건조기 및 레이크형 교반 건조기를 바탕으로 지속적으로 개선 및 개발되었으며, 가열 조건이 좋고 장시간 접촉 가열이 가능한 재료에 적합합니다. 자유롭게 흐르고 점착되지 않는 미세 분말 및 입도 분포가 넓은 과립형 재료 처리에 적합합니다.
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